某半导体设备制造出的企业因晶圆洁净道工序带来含氨废水正确处理，出水量200吨/天。废水正确处理中除挥发酚外还具有刺激性氟化物和进样器天价属，正确处理一定的难度大。立即进行排放规则标准挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 营养成分及特征 晶圆洗掉污水（基本来历）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺程序污废水 ：含微量分析铜、镍等高价属，pH值起伏大 CMP研磨机污废水 ：含硅粒子及氯离子 整理工序具体步骤 主要包括"催化结晶+膜分离处理+折点氯化"组合起来技术： 预解决 ：污泥脱水CaCl2除氟，管理pH在7.5-8. 反渗透膜软件系统 ：除掉0.01μm不低于颗粒状物 反渗入果汁 ：将挥发酚提液至1000mg/L以上内容 折点氯化 ：正确有效控制氯污泥脱水量，将挥发酚变为为惰性气体 铝离子变换 ：的保障高价属考核标准 结果是使用效果 高锰酸盐指数保持稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含铁高出检查限 水造纸废水处理率达75% 飞灰产生了量减轻40%